Deutscher Zukunftspreis 2020 für EUV-Lithografie

Lasertechnik
26.11.2020
Erstellt von Photonik Forschung Deutschland

Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier zeichnete am Mittwochabend ein Forscher-Team von ZEISS, Fraunhofer IOF und TRUMPF mit dem bedeutendsten Wissenschaftspreis Deutschlands aus.

Deutscher Zukunftspreis
Frank-Walter Steinmeier verleiht dem Forscherteam Peter Kürz (Zeiss), Sergiy Yulin (Fraunhofer IOF) und Michael Kösters von TRUMPF (v.l.n.r.) den Deutschen Zukunftspreises 2020 für die Entwicklung der EUV-Lithografie. © Deutscher Zukunftspreis

Vergeben wird der Preis jährlich für technologisch besonders innovative und wirtschaftlich aussichtsreiche Forschungsprojekte. Mit der Entwicklung einer neuen Fertigungstechnik für Mikrochips konnte sich das Team um Peter Kürz von ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), Michael Kösters von TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing und Sergiy Yulin vom Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF den mit 250.000 Euro dotierten Preis für Technik und Innovation sichern. Beteiligt war auch das niederländische Unternehmen ASML.

Leistungsfähige Mikrochips für die Anwendungen der Zukunft

Bundesforschungsministerin Anja Karliczek gratulierte den Gewinnern. Sie bezeichnete den Beitrag der Wissenschaftler als einen neuen globalen Standard in einer Schlüsseltechnologie der Digitalisierung.

 „EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter“ lautet der Titel des Projekts, in welchem die Wissenschaftler die Basis für viele Anwendungen der Zukunft gelegt haben. Mit der neuen Fertigungstechnik, der EUV-Lithographie, können leistungsfähigere Mikrochips z. B. für Smartphones, Autonomes Fahren oder Künstliche Intelligenz produziert werden.

Weltweit einziger Hersteller für EUV-Lithografie-Maschinen ist die niederländische Firma ASML, die als Integrator die Architektur des Gesamtsystems und insbesondere die EUV-Quelle entworfen hat. Schlüsselkomponenten dieser Maschinen sind der Hochleistungslaser von Trumpf für die EUV-Lichtquelle und das optische System von Zeiss. EUV steht für „extrem ultraviolett“, also Licht mit extrem kurzer Wellenlänge. Mit dieser Schlüsseltechnologie lassen sich in diesem und dem nächsten Jahrzehnt weitaus leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Halbleiterchips herstellen als jemals zuvor.

Denn ohne weiterhin stark steigende Rechenleistung keine erfolgreiche Digitalisierung: Heute hat bereits ein Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers, der 1969 die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird dies durch einen kaum fingerkuppengroßen Halbleiterchip, auf dem sich mehr als fünfzehn Milliarden Transistoren befinden. Das Fertigungsverfahren für die neuesten Chip-Generationen fußt auf der Nutzung von EUV-Licht, das bisherige Grenzen des technisch Machbaren überwindet. Von der Lichtquelle über das optische System im Vakuum bis zur Oberflächenbeschichtung der dabei eingesetzten Spiegel musste praktisch die gesamte Belichtungstechnik von Gund auf neu entwickelt werden.

Weitere Informationen

Website des "Deutschen Zukunftspreises"